专利名称:一种免修饰超疏水铜层的制备方法及其应用
申请号: CN202011561755.0
发明人: 李好;李鹏昌;辛蕾;彭玉洁;于青;王忠卫
摘要:
本发明属于金属材料表面改性领域,具体涉及一种钢基体上超疏水铜层的制备方法及其应用。免修饰超疏水铜层的制备方法包括:钢材基体进行前处理;配制电沉积溶液:将铜盐溶液、酒石酸钾钠溶液混合,再加入氢氧化钠,即得;电沉积过程:利用电沉积技术将电沉积溶液沉积在金属表面形成仿生微纳米结构铜层;然后将该金属在室温条件下放置,即可得到免修饰超疏水铜层。通过合理选择沉积金属的种类和组成,首次发现,在合理的电沉积参数条件下,在金属上电沉积铜金属也能形成仿生微纳米结构铜层,赋予金属表面优异的疏水性能。